第141章 思路放開，想干就干

  第141章 思路放開，想干就干

  1987年10月12日，101所芯能光刻機廠迎來了三名特別的客人。

  左洋，顧仁達，丁邦開，三名在德州儀器晶片加工廠工作的灣島人。

  東升船業付了錢，他們三個人只需要在這裡呆一個月。

  趙國慶親自接待了他們，還有何振華教授，盧怡榕總師，王麗嘉，劉成敏，呂金超，水泉祥幾個芯能光科機廠的骨幹。

  小趙老師期待值很高，特別是聽到左洋說德州儀器，已經攻克八百納米製造工藝時。

  「德州儀器用的是什麼型號的光刻機？用的什麼光源？」

  左洋說：「用的是尼康NSR-120步進式掃描光刻機，光源還是用的高壓汞燈的i線，ASML生產PA2000廠里也有兩台，德州儀器去年還買了兩台GCA公司的雷射掃描光刻機，可以很輕鬆的實現800納米製程！」

  雷射這個詞讓趙國慶很是敏感，他問道：「用的什麼雷射？」

  

  丁邦開搖搖頭說：「我們只是教你們使用PA2000光刻機的，其他的，抱歉！」

  好吧，那就是錢沒給夠，一人加了兩萬美元，趕上他們好幾個月的收入，自然暢所欲言了。

  左洋說：「246納米的紫光雷射機，至於是什麼樣的雷射器，就不知道了，反正用這台光刻機，我們掩膜版縫距可以縮小一倍。」

  光電雷達總師盧怡榕總師對趙國慶說：「趙所長，他們的雷射器應該是用的氟化氪準分子雷射器，我們所現在就在研究，只不過目前的技術，發射的雷射功率還不夠！」

  雷射產生的條件，需要形成粒子數反轉。那麼當粒子數反轉超過一定值後，就會形成振盪，產生雷射。

  當雷射發射以後，上能級粒子數就消耗掉了，所以振盪就停止了，直到下一次粒子數累積後再反轉。這也就是為什麼普通雷射器峰值功率不能提高的原因。

  怎麼提高雷射的功率，他腦子裡的方法可不止一種，調Q技術，鎖模技術，光學參量放大技術。

  本來想繞過氟化氪紫外雷射，還有氟化氬深紫外線準分子雷射，直接上x光光源的。

  小趙老師發現自己想多了，全世界在光源這一塊最強的美利堅，他們也沒辦法製造一台ASML深紫外光刻機，若是想要商用話，需要多方面的突破，緊緊依靠光源肯定解決不了。

  而且x光光源需要的技術難度也不小，開發技術上更成熟的深紫外雷射器，還是有必要的。

  看來這些技術路線還是要走一遍。

  趙國慶對盧怡榕說：「紫外線、深紫外線雷射光源下一步將是101所重點項目，還要加入極紫外光項目的研究！」

  盧怡榕笑了，能被101所升級到重點項目的，無論資金還是人員將受到極大的傾斜，不過？

  盧怡榕問道：「趙所長，極紫外線雷射是怎麼分類的，我怎麼沒聽說過？」

  趙國慶說：「不一定是雷射，波長13.5納米的光源，僅次於x光的光源！」

  「……」

  小趙老師搖搖頭，極紫外線光源技術保密程度極高，能查到的就是用二氧化碳雷射機射擊一個小小的錫球，輻射出13.5納米的深紫外線，而且光線還是分散的，需要凹面鏡來反射，怎麼看都像是老美給出的技術陷阱。

  肯定有別的辦法……

  灣島人的職務都不高，好在都是一線的。

  小趙老師試探來試探去，他們對製程這塊確實沒太多研究，每天的工作也是公式化的，不過有個好處是，可以帶來規範的車間管理。

  再問道晶片電晶體結構，小趙老師明悟了。

  想了想也難怪，現在i線386納米光源還沒利用到極限，Intel目前量產的386處理器還用的1.5微米的製程，但386納米光源的極限制程在600到800納米之間。

  主要晶片加工廠在製程上，最需要解決的是合適的半導體結構，多是在電晶體物理層面上探索，使之更加適用於光刻而保證良品率。

  比如現在德州儀器所用的深溝槽，基底離子注入襯墊來解決800納米製程帶來的電晶體漏電問題，實際上也就是對本身的PN結構一種改良，並沒有涉及到效應電晶體結構的革命，而FinFET鰭片式場效應電晶體才是突破。

  而製程一直到65納米之後，光刻機光源才開始制約晶片製程的提高，到那個時候，人們才開始研究，如何突破現有波長的光源理論製程的極限。

  多重曝光技術也就是從那個時候開始的。

  小趙老師想明白這件事，心下對101所晶片製程的發展思路一下子放開了。

  FinFET場效應電晶體晶片他研究的夠深入了，可以直接拿來上800納米製程，計劃三年內進入商用化。

  同時在多重曝光技術上加大投入，六年內，300納米製程商用化。

  為此榨乾PA2000光刻機最後的性能，386納米光源的極限也就差不多了，最多到200納米。

  而六年的時間，準備將氟化氪光源、氟化氬光源裝到PA2000上，或者裝到我們自己的光刻機上。

  130納米，90納米，65納米，45納米，28納米，14納米……

  一直到x光終結者光源上線。

  漫長的二十年晶片發展計劃……

  次日，101所雷射研究室，小趙老師親自授課。

  「相位差恆定，振動方向一致，就會產生干涉，對吧！」

  「當鎖定不同雷射縱模即頻率之間的相位差後，是不是就會將大部分能量集中到干涉增強處？」

  「你們看，這是普通未鎖定相位的光強時域分布，這是鎖定後的！」

  小趙老師短短几句話，就給盧怡榕團隊打開了新思路，她們急忙拿起筆來計算。

  數十分鐘後，盧怡榕神色激烈的對小趙老師說：「通過干涉這種方法，可以用多個雷射發生器發出干涉，將脈衝寬度壓縮到皮秒量級，甚至到亞飛秒量級，功率達到10^9W量級，趙所長，你真的神了！」

  趙國慶搖搖頭，拿下盧怡榕手上的筆，在紙上畫了一個草圖。

  「這是振盪器，這是展寬器，這是放大器，這是壓縮器，伱看光線先展寬、然後放大、再壓縮成高功率短脈衝的雷射……」

  「……」

  小盧同學已經麻木了。

  （還有更新耶）