第240章 1536集成度，近接式光刻機的升級！

  第240章 1536集成度，近接式光刻機的升級！

  京城，半導體所。

  門口。

  江陽剛要進去，突然忍不住連打了兩個噴嚏。

  聽到動靜。

  走在後面的蘇筱，快步上前，道：「您感冒了？」

  江陽擺手笑道：「沒有，說不定是有人念叨我呢。」

  一邊說著話，江陽一邊走進所內。

  剛到實驗樓下。

  就看到了早早等候在此的王壽吾。

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  後者道：

  ——

  「大家都在會議室。」

  知道江陽今天結束休假。

  為了節省時間。

  他們提前就做好了全部準備。

  江陽微微頷首，道：「好，我們上去吧。」

  來到會議室。

  黃琨、林嵐因、王大嚴等人，正在裡面說話。

  看到江陽。

  幾人迎上前，笑道：「假期休息得怎麼樣？」

  江陽道：

  ——

  「還算不錯，就是時間太長了些。」

  他小小的「抱怨」了一句。

  聽到這話。

  會議室內的所有人，都忍不住發出笑聲。

  別人放假都是休息。

  只有他們的江教授，每次放假，都滿是不情願。

  黃琨搖頭道：「那也沒辦法，誰讓您的工作強度，實在太高了呢！」

  聽到這話。

  周圍的林嵐因等人紛紛點頭。

  雖說江陽每周都會休息2天，還會經常被上面放假。

  但論產出。

  整個半導體所綁在一起，都沒有江陽多。

  一這種成績，沒有長時間持續的高強度的思考，不可能做到。

  江陽道：「其實還好，我也會經常休息，抽空放空大腦。」

  他的話音剛落。

  蘇筱忽然道：「您是指，休息7天，5天都和人討論研究？」

  江陽：「..

  「」

  王壽吾、黃琨幾人撇過頭，努力壓制著笑意。

  但最終。

  還是忍不住笑出聲來，緊跟著，屋內爆發出一陣歡快的笑聲。

  片刻後，眾人才陸續安靜下來。

  江陽倒也沒生氣。

  而是道：「王教授，近接式光刻機現在的升級情況怎麼樣了？」

  聽到他說起正事。

  眾人當即收起笑容，進入研究狀態。

  王大嚴道：「我們工藝優化，精確控制掩膜和晶元間隙等方式。」

  「讓光刻機的光刻解析度。」

  「得到了一定程度的提升，但現在，提升已經開始減緩————」

  在近接式光刻機剛出來的時候。

  只要他們肯下功夫。

  集成電路的集成度，就會蹭蹭往上竄。

  到現在為止。

  已經達到1536。

  但是。

  在這之後，速度就開始停滯下來。

  王壽吾笑道：「其實我覺得這才是常態。」

  「1536集成度。」

  「M帝和老大哥恐怕做夢都想不到我們已經做到了這種地步！」

  他說完後。

  一旁的林嵐因點頭贊同，道：「說的沒錯，即便速度減緩，我們也仍舊遙遙領先！」

  聽到他們的話。

  江陽笑道：「好了，我知道大家是擔心我。」

  「不過。」

  「其實我之前就考慮了後續的升級問題，但你們這麼想的話————」

  話還沒說完。

  王壽吾便道：「但話又說回來，討論一下也沒什麼，對不對？」

  眾人：「對對對！」

  江陽笑而不語。

  隨後。

  他才繼續道：「其實核心還是那三個問題。」

  「先說說光學解析度。」

  「我們現在，採用的是汞燈+濾光片，光源波長————」

  半導體所的近接式光刻機。

  本身。

  就是一個閹割的版本，存在很多提升的空間。

  汞燈+濾光片首先在光譜特性上，就存在不足。

  雖說濾光片會選擇汞燈發射的固定波長。

  但仍舊有較寬的幾個譜寬。

  除此之外。

  還有空間相干性、能量密度與相干性、波長範圍等問題——

  江陽道：「所以我們需要尋找辦法。」

  「去實現。」

  「從「粗放的光源」到精密的工具」的質變！」

  他說完後。

  微微停頓片刻，等候眾人的思考。

  很快。

  王大嚴便開口道：「其實我最近發現，由於光的衍射和干涉。」

  「光刻膠實際形成的圖形。」

  「會與掩膜版上的設計圖形發生偏差，角落會變圓————」

  他一邊說。

  一邊從自己的桌上，拿起一沓實驗報告。

  然後道：「所以我在想。」

  「可不可以在製作掩膜版時。」

  「預先對設計圖形進行反向的、精確的扭曲和修正。」

  王大嚴說完後。

  在座的很多人，都陷入沉思。

  不過。

  一時間，他們都無法判斷是否可行。

  於是所有人。

  都不約而同地看向江陽。

  江陽微微頷首，道：「這種現象確實存在，它源於光的波動本性。」

  「要解決的話。」

  「可以先通過大量的工藝實驗和模擬，去總結一些固定的修正規則。」

  王大嚴提到的問題。

  其實就是光學鄰近效應。

  它是隨著半導體工藝節點的不斷縮小，而逐漸被認識到的問題。

  歷史上。

  在80年代末。

  半導體工藝進入亞微米時代後，才成為一個必須被解決的問題。

  不過。

  既然已經提出來了。

  江陽索性就講一講。

  他繼續道：「當然，規則式只適用於初期階段。」

  「要完美解決。」

  「最好還是通過計算機，建立光學模型————」

  隨著江陽的講述。

  王大嚴的眼中，不停地放光。

  手裡的筆。

  更是一刻都沒有停下，不斷記著筆記。

  但聽到通過計算機建立光學模型這裡。

  王大嚴還是不得不舉起手，道：「為什麼我們需要使用計算機建立光學模型呢？」

  他說完後。

  近接式光刻機研究組這邊的技術骨幹們，也露出疑惑的眼神。

  江陽解釋道：「因為要計算光通過掩膜版後，在矽片表面的每一個點的光強。」

  「它的計算。」

  「會從目前簡單的傅立葉變換升級為更複雜的霍普金斯成像理論————」

  一塊晶片的掩膜版，後續甚至會是納米級別。

  整個晶片尺寸。

  更是毫米級別，需要計算一個巨大區域中數以十億甚至百億的點的光強。

  要是手工計算。

  所需要花費的時間，幾乎難以估計。

  但使用計算機。

  就能完美地解決這一個問題。

  而且。

  還能夠滿足疊代的需求，讓掩膜圖形被修正到令人滿意為止。

  否則等算完後。

  發現效果並不理想，恐怕想死的心都有了。

  （還有更新耶）